丙酮制造與使用工廠之勞工暴露調查
轉載：
Exposure Survey of Workers in AcetoneRelated Factories
研究主持人：陳美如、陳成裕
計劃主辦單位：勞動部勞動及職業(yè)安全衛(wèi)生研究所
研究期間：中華民國103年03月11日至104年06月30日
本研究之目的在于了解丙酮之暴露健康危害，并對丙酮制造與使用業(yè)之丙酮逸散特征與作業(yè)勞工暴露評估進行探討。完成之工作內容包括：
（1）搜集國內外丙酮健康危害之文獻；
（2）以標準采樣分析方法執(zhí)行一家丙酮制造廠及五家丙酮使用廠作業(yè)勞工暴露調查；
（3）完成六家事業(yè)單位丙酮濃度及逸散特性調查結果分析；
（4）以新興濃度監(jiān)測技術評估一家丙酮制造廠和五家丙酮使用廠廠區(qū)丙酮濃度分布
（5）探討利用區(qū)域暴露濃度與時間活動模式所推估之個人暴露濃度與勞工個人采樣暴露濃度之相關性。
結果發(fā)現(xiàn)：
（1）丙酮制造業(yè)勞工之丙酮推估之暴露濃度（0.0211ppm）＜丙酮使用業(yè)勞工（8.22~142ppm）。前述濃度均低于我國目前『勞工作業(yè)場所容許暴露標準』中所規(guī)定之八小時日時量平均容許濃度（750ppm），亦低于OSHA之規(guī)定值（1,000 ppm）、NIOSH與ACGIH之建議值（250 ppm與500 ppm）；唯其中一家丙酮使用廠（油墨生產廠），有兩位勞工丙酮暴露濃度分別為269ppm及329ppm，高于NIOSH之建議值（250ppm）。該廠勞工算術平均暴露濃度（n=7）為142ppm，高于NIOSH 建議之二分之一容許暴露標準（125ppm）。
（2）一家丙酮制造廠與五家丙酮使用廠之丙酮作業(yè)環(huán)境平均濃度分別為0.0274ppm、14.3ppm、33.1ppm、20.3ppm、24.0ppm 及84.7ppm，皆小于二分之一容許暴露標準（375ppm），屬于第一管理區(qū)分，代表場所管理狀態(tài)良好，應繼續(xù)保持，并至少每三年進行暴露評估一次。（3）結合環(huán)境監(jiān)測與直讀式測量技術所建立之總揮發(fā)性有機物與丙酮濃度相關性（R2=0.749~0.999），可有效了解丙酮制造與使用廠之主要逸散源及推估勞工暴露情形。（4）由勞工時間活動模式所推估之丙酮濃度與丙酮實際暴露濃度，二者濃度間有良好之相關性（R2=0.684~0.938），表示時間活動模式所推估的勞工個人丙酮暴露濃度可評估勞工暴露情形。
本研究之建議包括：
（1）暴露丙酮的作業(yè)勞工應該佩戴防有機溶劑之呼吸防護具。
（2）丙酮作業(yè)區(qū)應裝置局部排氣裝置或整體換氣裝置，以排除或稀釋丙酮濃度。
（3）裝有丙酮之容器應加蓋防止丙酮逸散至作業(yè)環(huán)境。
（4）丙酮暴露作業(yè)勞工應進行生物偵測（尿中丙酮濃度）以評估丙酮進入人體之總暴露劑量。
目前我國勞動部所規(guī)定之『勞工作業(yè)場所容許暴露標準』，八小時日時量平均容許濃度（PEL-TWA）為750ppm（1,780mg/m3）；美國職業(yè)安全衛(wèi)生署（OSHA）現(xiàn)行之標準值為1,000ppm（2,400mg/m3）；美國政府工業(yè)衛(wèi)生師協(xié)會（ ACGIH）現(xiàn)行之限值（TLVs）為500ppm（1,180mg/m3）；美國職業(yè)安全衛(wèi)生研究所（NIOSH）之建議暴露標準（RELs）為250ppm（590mg/m3）。有鑒于丙酮對人體之危害，長期以來國內外已有許多研究針對暴露到丙酮之職業(yè)暴露族群或作業(yè)場所依個人采樣或區(qū)域采樣加以評估，其對象含：（1）醋酸纖維制造工廠；（2）制鞋廠；（3）紀念幣制造工廠；（4）PU 人造皮制造業(yè)；（5）彩色濾光片制造廠；（6）液晶顯示器制造廠；（7）飛機噴漆作業(yè)勞工；（8）制漆業(yè)勞工；（9）石化廠勞工；（10）塑料材料印刷作業(yè)勞工。從這些結果可發(fā)現(xiàn)：紀念幣制造工廠勞工使用丙酮當作清潔劑時，暴露濃度988~2,114mg/m3對勞工具有神經(jīng)毒性，該研究建議丙酮之暴露濃度限值應降為500mg/m3[7]，另有研究指出醋酸纖維制造工廠勞工丙酮暴露平均濃度351.9ppm，勞工有頭痛、惡心、頭暈、嗜睡、體重下降和精神混淆之癥狀[15]，該研究認為丙酮之暴露濃度限值訂定為750ppm來預防健康危害，此規(guī)定值訂太高了。唯此處應注意的是區(qū)域采樣并無法代表個人暴露，致使前述結果之比較受到一定限制。
直讀式儀器（如PhotoIonizationDetectors,PID氣體偵測器）因操作容易且可在短時間內取得暴露濃度數(shù)據(jù)之優(yōu)點，因此可用來進行重復且連續(xù)之長期量測。過去有研究利用直讀式儀器測定結果結合勞工之時間-活動模式（Time-activitypattern,TAP）來推估勞工之暴露實態(tài)[16]。利用此方式不但可以了解作業(yè)環(huán)境中不同時間點污染物質之濃度變化情形，亦可知道作業(yè)勞工不同之暴露貢獻來源，并進一步找出高暴露作業(yè)。然而值得注意的是，直讀式儀器因受限于其監(jiān)測原理缺乏對未知物質的鑒定能力，且亦受環(huán)境溫、濕度及作業(yè)場所中其他混合物暴露的影響。因此在選擇使用直讀式儀器做為勞工暴露濃度長期監(jiān)測之儀器設備時，仍有其限制。最近王等[17]以PID氣體偵測器及傳統(tǒng)有機溶劑采樣方法，于薄膜晶體管液晶顯示器（ThinFilmTransistor-LiquidCrystal Display,TFT-LCD）廠實施采樣以建立總揮發(fā)有機污染物（TotalVolatileOrganic Compounds,TVOCS）測值與有機溶劑測值之相關性，再利用 TVOCS之長期測值，成功 建立有機溶劑之長期暴露數(shù)據(jù)庫，前述方法可有效解決 TVOCS偵測器之使用限制。
時間-活動模式（Time-activitypattern,TAP）是指個人在職場不同時間內所做的全部工作之完整記錄。由于TAP的數(shù)據(jù)取得容易，且可提供豐富信息，因此逐漸運用于工業(yè)衛(wèi)生之相關研究。TAP可以用來紀錄個人暴露在空氣污染環(huán)境下其時間的長短，并進一步推估其暴露濃度之高低[18-19]。Wallance等人于1989年針對七位受試者進行三天個人采樣測定，并配合個人活動之記錄，結果顯示受試者暴露污染物的種類及暴露量與個人活動有極大關系，所以透過TAP 之調查，可提供不同暴露族群在不同環(huán)境的活動時間，配合各種不同污染物質之測定濃度值，即可描繪個人的暴露時態(tài)，并可計算暴露的時間、濃度及次數(shù)，進而了解作業(yè)勞工不同之暴露貢獻來源。時間-活動調查其時間分辨率（區(qū)間）視欲調查之環(huán)境及對象而定。Liu等人于1993年之時間-活動模式調查乃以15 分鐘作為時間區(qū)間。另外，亦有以1 小時進行記錄。而其調查之時間則有可能是采回憶記錄方式（recalltime-userecords），或實時記錄之方式（realtime-use
records）。另外，亦有以觀察者直接進行勞工個人時間-活動模式觀察記錄（direct observation）之方式[20]。
根據(jù)勞動部認可之作業(yè)環(huán)境監(jiān)測機構自101年~103年9月在勞動部勞工作業(yè)環(huán)
境監(jiān)測信息管理系統(tǒng)，所申報事業(yè)單位作業(yè)環(huán)境監(jiān)測濃度數(shù)據(jù)發(fā)現(xiàn)，有些事業(yè)單位3 年內有2 年濃度在前12 名，這些事業(yè)單位包括：電子廠（銅箔基板制造、照明組件制造）、印刷電路板廠、科技廠（通信元組件制造、半導體零件洗凈、汽車模具應用、液晶面板蝕刻法薄化加工）、金屬制品廠及石英芯片制造廠，其監(jiān)測濃度數(shù)據(jù)如表1。
表1 101 年~103年作業(yè)環(huán)境監(jiān)測丙酮高濃度數(shù)據(jù)及行業(yè)別
事業(yè)單位 | 測定結果（ppm） | 公司商品 |
1 | <0.356~170.6（101年：個人） 0.95~157.6（102 年：區(qū)域） <0.345~154.1（103年：區(qū)域） | 銅箔基板、油墨 |
2 | <0.96~569（101年：個人） <0.34~25.5（102年：個人） 3.1~241（103 年：個人） | 銅箔基板 |
3 | 246.5（101 年：個人） | 電子零組件相關業(yè)印刷電路板制造業(yè)、 |
13.9~157.7（102 年：個人） | 銅箔基板 | |
26.1（103 年：個人） | ||
4 | 197.0（101 年：個人） 5.9~151.6（102 年：個人） 17.3~43.4（103 年：個人） | 印刷電路板 |
5 | 101 年無測定資料 | 生產及銷售傳統(tǒng)印刷電路板、高密度連 |
15~102（102 年：區(qū)域） | 結板（HDI）、軟硬復合板、覆晶載板及 | |
0.48~122.7（103 年：區(qū)域） | 打線載板 | |
6 | 169.1（101 年：區(qū)域） | 照明成品、照明組件與模塊、背光封裝、 |
<0.16~1.21（101年：個人） | LED晶粒 | |
72.8（102 年：區(qū)域） | ||
<0.17~66.3（102年：個人） | ||
134.1（103 年：區(qū)域） | ||
<0.21~1.07（103年：個人） | ||
7 | 1.12~135.9（101 年：區(qū)域） 11.8~152.1（102 年：個人） 103 年無測定 | 液晶面板蝕刻法薄化加工 |
8 | 143.8（101 年：個人） | 1.射頻組件 |
10.4~286（102 年：個人） | 2.積層芯片共模濾波器 | |
103 年無測定資料 | 3.通信元組件 |
9 | 91（101 年：個人） 78.9（102 年：個人） 70（103 年：個人） | 金屬制品、手工具、刀具、螺絲起子 |
10 | 0.25~566.0（101 年：個人） | IC半導體零件洗凈處理、IC半導體零件 |
0.21~38.9（101 年：區(qū)域） | 再生處理 | |
1.88~207（102 年：個人） | ||
0.17~16.7（102 年：區(qū)域） | ||
35（103 年：個人） | ||
1.07~16.6（103 年：區(qū)域） | ||
11 | 319.5（101 年：個人） <1.4（102年：個人及區(qū)域） 46.2（103 年：個人） <2.22（103年：區(qū)域） | 汽車模具應用 |
12 | 6.99~154（101 年：個人） 6.28~57.8（102 年：個人） 12.8~93.4（103 年：個人） | 微波集成電路、光電系統(tǒng)組件生產制造 |
由過去文獻中發(fā)現(xiàn)截至目前為止，尚未有研究針對丙酮制造與使用廠同時評估作業(yè)環(huán)境區(qū)域濃度分布情形、作業(yè)勞工個人暴露情形及探討區(qū)域暴露濃度與時間活動模式所推估之個人暴露濃度與勞工個人采樣暴露濃度之相關性，因此評估丙酮制造與使用業(yè)之環(huán)境暴露及其勞工暴露情形，實值得深入研究與重視。